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用神经网络和遗传算法（BP-GA）优化电沉积Cu-W的工艺参数。结果显示：BP-GA预测结果与试验结果较接近,相对误差为9.05%,说明BP-GA优化电沉积工艺参数有较高的预测能力和准确度。
用BP神经网络和遗传算法优化电沉积Cu-W的工艺参数
【摘 要】
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用神经网络和遗传算法（BP-GA）优化电沉积Cu-W的工艺参数。结果显示：BP-GA预测结果与试验结果较接近,相对误差为9.05%,说明BP-GA优化电沉积工艺参数有较高的预测能力和准确度。
【机 构】
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贵州大学材料与冶金学院,昆明理工大学冶金与能源工程学院
【出 处】
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电镀与环保
【发表日期】
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2015年2期
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