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【正】 光学薄膜反应离子镀技术是近年来新发展的一种光学薄膜技术,正在受到国内外的关注,传统的反应蒸发工艺制备的光学薄膜呈显著的柱状结构,表面粗糙等缺陷;而反应离子镀工艺制备的光学薄膜,牢固度、致密度、表面光洁度等光机性能均有明显改善,薄膜
反应离子镀TiO<sub>2</sub>膜的聚集密度的测定
【摘 要】
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【正】 光学薄膜反应离子镀技术是近年来新发展的一种光学薄膜技术,正在受到国内外的关注,传统的反应蒸发工艺制备的光学薄膜呈显著的柱状结构,表面粗糙等缺陷;而反应离子镀
【机 构】
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河南师范大学物理系,清华大学现代应用物理系,清华大学现代应用物理系新乡453002,北京100084,北京100084
【出 处】
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光电子．激光
【发表日期】
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1993年3期
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