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详细论述了刻线边缘粗糙度问题的产生原因,线边缘粗糙度的定义以及目前采用的测量方法和分析方法,比较了线边缘粗糙度的测量工具,并讨论了测量线边缘粗糙度的技术障碍.
半导体工业中临界尺寸线边缘粗糙度的测量
【摘 要】
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详细论述了刻线边缘粗糙度问题的产生原因,线边缘粗糙度的定义以及目前采用的测量方法和分析方法,比较了线边缘粗糙度的测量工具,并讨论了测量线边缘粗糙度的技术障碍.
【机 构】
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哈尔滨工业大学
【出 处】
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哈尔滨工业大学学报
【发表日期】
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2005年5期
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