【摘 要】
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介绍了一种新型微蚀刻体系,其组分主要包括单过硫酸氢钾复合物、磷酸及稳定剂等,研究了温度、组分用量、铜含量等因素对蚀刻的影响。结果表明:温度对该蚀刻体系的影响较大,以
【机 构】
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介绍了一种新型微蚀刻体系,其组分主要包括单过硫酸氢钾复合物、磷酸及稳定剂等,研究了温度、组分用量、铜含量等因素对蚀刻的影响。结果表明:温度对该蚀刻体系的影响较大,以37～43℃范围为宜;磷酸在稳定剂的存在下可维持槽液pH值稳定,提高处理效果,其用量为1.6%～2%时有利于蚀刻;单过硫酸氢钾复合物在50～100 g/L为宜,通过控制其用量可获得所需的蚀刻量;铜含量对蚀刻速率影响较大,当铜含量上升时,需不断添加微蚀液以维持一定蚀刻量。与传统蚀刻体系相比,该微蚀刻体系具有蚀刻量低、更容易控制、药液更稳定等特点,能更好地满足PCB蚀刻的要求。
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