【摘 要】
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本文讨论了I~2L/MTL 技术和工艺的历史及发展情况。在各个小节中详细讨论了提高性能所采用的各种技术,例如衬底馈电逻辑、肖特基I~2L、离子注入和双基区工艺,且简短地说明了
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本文讨论了I~2L/MTL 技术和工艺的历史及发展情况。在各个小节中详细讨论了提高性能所采用的各种技术,例如衬底馈电逻辑、肖特基I~2L、离子注入和双基区工艺,且简短地说明了一些新概念和应用。并列出了从技术杂志和应用文献所汇集到的全部文献目录
This article discusses the I ~ 2L / MTL technology and process history and development. Various techniques for improving performance are discussed in detail in various subsections, such as substrate feed logic, Schottky I-2L, ion implantation, and dual base-region processes, and briefly describe some new concepts and applications. And lists all the bibliographies compiled from technical journals and application documents
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