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利用自行设计的基片液氮低温冷却装置，用金属Ni靶在Ar＋O2气氛反应条件下，利用磁控溅射制备纳米微晶结构NiOx膜的方法，薄膜的XRD谱和扫描电子显微图像（SEM）表明，该方法实现了在溅射参数完全相同的条件，纳米Ni晚薄膜结构连续可控、可调节。
磁控溅射基片低温冷却法制备NiOx纳米微晶薄膜
【摘 要】
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利用自行设计的基片液氮低温冷却装置，用金属Ni靶在Ar＋O2气氛反应条件下，利用磁控溅射制备纳米微晶结构NiOx膜的方法，薄膜的XRD谱和扫描电子显微图像（SEM）表明，该方法实现了在溅射参
【机 构】
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北京航空航天大学理学院凝聚态与材料物理研究中心,北京印刷学院基础部,北京有色金属研究总院
【出 处】
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功能材料
【发表日期】
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2008年10期
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