【摘 要】
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通过气相外延技术生长了Au掺杂的Hg_（1-x）Cd_xTe薄膜材料。利用傅里叶光谱仪和金相显微镜对外延材料进行了表征。通过二次离子质谱（Secondary Ion Mass Spectroscopy,SIMS）技术分
【机 构】
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中国科学院上海技术物理研究所红外成像材料与器件重点实验室
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通过气相外延技术生长了Au掺杂的Hg_（1-x）Cd_xTe薄膜材料。利用傅里叶光谱仪和金相显微镜对外延材料进行了表征。通过二次离子质谱（Secondary Ion Mass Spectroscopy,SIMS）技术分析了Au在Hg_（1-x）Cd_xTe外延层以及CdZnTe衬底中的纵向分布趋势。利用SIMS技术还分析了Ⅰ、Ⅱ族和Ⅵ、Ⅶ族杂质在Hg_（1-x）Cd_xTe外延层以及CdZnTe衬底中的纵向分布趋势,发现衬底和外延层的过渡区具有吸杂作用。研究结果对提高探测器的性能具有指导意义。
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