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综合评述了300mm硅材料在晶体生长、硅片成形、表面质量控制、衬底优化以及表征等方面的研究现状和发展趋势,特别是国内在300mm硅技术研究中所获得的一些成果.
300mm硅片技术发展现状与趋势
【摘 要】
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综合评述了300mm硅材料在晶体生长、硅片成形、表面质量控制、衬底优化以及表征等方面的研究现状和发展趋势,特别是国内在300mm硅技术研究中所获得的一些成果.
【机 构】
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有研半导体材料股份有限公司
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2005年10期
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