Zn扩散工艺在降低VCSELp型DBR串联电阻中的应用

来源 :半导体光电 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ray361
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垂直腔面发射激光器P型λ/4分布布喇格反射镜由于在AlAs/Al0.1Ga0.9As材料λ/4堆积层界面处存在大的势垒差,使得p型DBR串联电阻很大。文章报道一种利用Zn扩散工艺,使AlAs/Al0.1Ga0.9Asλ/4堆积层Al,Ga互扩散,形成AlxGa1-xAs混熔层或在界面处形成Al,Ga组分渐变的AlxGa1-xAs缓变层,从而降低p型DBR串联电阻的方法。利用这种方法,已研制成功室温连续工作的垂直腔面发射激光器 Vertical Cavity Surface Emitting Lasers P-type λ / 4 Distributed Bragg Mirrors P-type DBRs have large series resistance because of the large potential barrier at the λ / 4 stack interface of the AlAs / Al0.1Ga0.9As material. The article reports the use of a Zn diffusion process to diffuse Al, Ga, Al, GaAs layers in AlAs / Al0.1Ga0.9Asλ / 4 to form an AlxGa1-xAs mixed layer or AlxGa1-xAs buffer Layer, thereby reducing the p-type DBR series resistance method. Using this method, vertical cavity surface-emitting lasers that have been successfully operated at room temperature have been developed
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