磁控溅射制备ZnO薄膜的受激发射特性的研究

来源 :光谱学与光谱分析 | 被引量 : 0次 | 上传用户：marquise

【摘要】

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用射频磁控反应溅射法在二氧化硅衬底上制备ZnO薄膜.得到了在不同温度下ZnO薄膜的吸收与光致发光.观测到了纵光学波(LO)声子吸收峰与自由激子吸收峰;室温(300K)下,PL谱中仅有

【作者】

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王晶张希清腾小瑛熊德平林鹏王丽黄世华

【机构】

：

北京交通大学光电子技术研究所

【出处】

：

光谱学与光谱分析

【发表日期】

：

2004年7期

【关键词】

：

氧化锌薄膜磁控溅射受激发射特性制备光电子材料 ZnO thin film stimulated emission exciton magnetro

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用射频磁控反应溅射法在二氧化硅衬底上制备ZnO薄膜.得到了在不同温度下ZnO薄膜的吸收与光致发光.观测到了纵光学波(LO)声子吸收峰与自由激子吸收峰;室温(300K)下,PL谱中仅有自由激子发光峰.这些结果证实了ZnO薄膜具有较高的质量.探讨了变温ZnO薄膜的发光特性.研究了ZnO薄膜的受激发射特性.

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