三种单冠对种植体周围骨应力分布影响的光弹分析

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目的

通过光弹模型分析3种单冠对种植体周围骨应力分布的影响,以期为种植修复单冠的材料选择提供参考。

方法

使用医用纯钛仿照种植体(Nobel Replace,直径为4.3 mm,长度为11.5 mm)及美观基台(标准型,穿龈高度1 mm)铸造种植体-基台一体化试件,包埋于光弹模型中。使用椅旁计算机辅助设计与辅助制作系统完成树脂陶瓷冠和氧化锆全冠的单冠制作,对切削成形的冠部形态制取硅橡胶阴模,辅助金属烤瓷冠的饰瓷堆塑。制作树脂陶瓷冠组、氧化锆全冠组和金属烤瓷冠组光弹模型试件,每组5个。对3组光弹模型分别进行垂直及斜向75°加载(300 N),通过数字光弹法分析3组种植体周围骨内不同观测面(0.5、1.5、2.5、3.5 mm)上颈部、颈1/3、中1/3、根1/3及根尖共5个观测点的应力,评价3种单冠受力后的应力缓冲作用。

结果

相同加载模式下,树脂陶瓷冠组种植体周围骨应力到达峰值的时间[垂直和斜向加载分别为(1.58±0.08)和(2.75±0.21)s]均显著大于氧化锆全冠组[垂直和斜向加载分别为(1.40±0.12)和(2.30±0.25)s](P<0.05);3组种植体周围相同观测点的等效应力值间差异均无统计学意义(P>0.05),但相比氧化锆全冠组,树脂陶瓷冠组各观测点的等效应力值均呈减小趋势。斜向加载时金属烤瓷冠组种植体颈部应力集中程度最明显。

结论

与氧化锆相比,复合树脂陶瓷对种植体周围骨内应力的缓冲作用更具优势。

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