【摘 要】
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采用喷雾热分解的方法,在片状日用玻璃基材和石英玻璃基材上制得了掺氟氧化锡透明导电薄膜.研究了F的掺杂量、成膜温度和沉积时间对薄膜方阻R□和在可见光范围内的平均透过率
【机 构】
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西安建筑科技大学材料科学与工程学院
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采用喷雾热分解的方法,在片状日用玻璃基材和石英玻璃基材上制得了掺氟氧化锡透明导电薄膜.研究了F的掺杂量、成膜温度和沉积时间对薄膜方阻R□和在可见光范围内的平均透过率T的影响.实验结果表明,当NH4F的掺杂量为SnCl4·5H2O的32%(质量分数)、成膜温度为450℃、沉积时间为15 s时,可使所得薄膜的方阻R□最低,为10 Ω/□,可见光范围内的平均透过率为80%.
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