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用恒电位电化学沉积法，尝试在氧化铝模板纳米孔内制备超长铜纳米线。透射电子显微镜（TEM）和扫描电子显微镜（SEM）分析结果表明：在较低的沉积电位下，纳米线表面较为光滑且呈现条纹结构，直径均匀，大约100nm，线长可达40-50μm，放置一段时间后离解成颗粒状；较高沉积电位下，纳米线的边缘粗糙不平，主要由晶粒连接而成，晶粒之间有空隙存在。金属纳米线的生长实际上是金属颗粒的堆积过程，金属原子之间无较强的化学键存在。由X射线衍射（XRD）、高分辨透射电子显微镜（HRTEM）分析得知，低电位下所得纳米线为单晶结构