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用分布参数的电路理论对等离子刻蚀、反应离子刻蚀机上从射频电源到真空室的功率传输电路进行了分析。用双口网络的分析方法推导出L型低通向上匹配网络的参数计算公式。根据射频放电光电信号与反射功率的关系,提出了采用非线性自寻优的控制策略实现自动匹配的新方法。研制成硬件以8031单片微机为主、软件算法为改进的座标轮换成败法的自寻优匹配器。