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介绍了集成电路(IC)在超精密加工技术中的发展.分析IC生产基本工艺流程与工艺技术,对影响IC发展的最新的3项关键生产技术进行研究;通过对国内外集成电路(IC)工艺装备的发展趋势进行分析,提出加工特征尺寸0.1~0.07μm的掩膜制造、光刻、刻蚀等关键装备以及芯片材料技术是IC技术创新和IC制造工艺设备的发展趋势.