论文部分内容阅读
为了研究30 cm离子推力器束流引出状态对栅极刻蚀的影响,建立了束流引出模型,并采用PIC-MCC方法对CEX离子造成的栅极腐蚀速率进行了计算,最后将计算结果与1500 h寿命试验结果进行比对分析。结果显示:束流正常聚焦时,在3 kW和5 kW两种工作模式下,加速栅和减速栅的质量刻蚀速率分别为(1.11~1.72)×10^(-15)kg/s及(1.22~1.26)×10^(-17)kg/s。在5 kW工况下,当屏栅上游等离子体密度达到4.03×10^(17)m^(-3)时,束