退火温度对ZnO薄膜晶体管电学性能的影响（英文）

来源 :深圳大学学报(理工版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：yzqp178

【摘要】

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ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清华大学发明人:隋森芳文摘:本发明属于生物技

【作者】

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覃金牛温喜章冯武昌许望颖朱德亮曹培江

【出处】

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深圳大学学报(理工版)

【发表日期】

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2004年期

【关键词】

：

薄膜材料 ZnO 薄膜晶体管退火温度迁移率界面

【基金项目】

：

National Natural Science Foundation of China(61704111,51872187,11774241,51371120);Natural Science Foundation of Guangdong Province(2017A030310524);Science and Technology Foundation of Shenzhen(JCYJ2

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ue＊M＃’＃dkB4＃＃8＃”专利申请号:00109“7公开号:1278062申请日:00.06.23公开日:00.12.27申请人地址:（100084川C京市海淀区清华园申请人:清华大学发明人:隋森芳文摘:本发明属于生物技术领域,包括主机、控制电路和计算机三部分组成,主机包括由棱镜。敏感膜敏感芯片、半导 Ue*M#

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