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Ni(Pt)Si硅化物温度稳定性的研究
对比研究了夹层结构Ni/Pt/Ni分别与掺杂p型多晶硅和n型单晶硅进行快速热退火形成的硅化物薄膜的电学特性.实验结果表明,在600~800&#......
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镍硅化物
快速热退火
X射线衍射分析
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