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聚焦重离子束溅射相关论文
聚焦重离子束溅射制备同位素靶的材料利用率及均匀性研究
研究了聚焦重离子束溅射制备同位素靶的材料利用率和均匀性。通过实验确定了两种溅射距离(7 mm和14 mm)下沉积靶的纵向和横向厚度分......
期刊
聚焦重离子束溅射
同位素靶
均匀性
材料利用率
focused heavy ion beam sputtering isotopic target unifor
硼靶制备技术的研究
介绍B靶制备技术及其质量厚度测量方法,静电振动,高压电喷和离心沉淀主极用于制备有衬B靶,而聚焦重离子束溅射和电子轰击可用来制备自支......
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聚焦重离子束溅射
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