采用脉冲激光淀积技术，在（００１）取向的ＳｉＯ２衬底上制备了ＬｉＮｂＯ３薄膜。为了防止淀积过程缺氧，往淀积腔内充入１０～１５Ｐａ的流动氧气，淀积速度０．３～１．０ｎｍ／ｍｉｎ，淀积时间１ｈ，淀积结束后，充入......