场致隧穿增强型AlGaN/GaN HEMT新结构

来源 :2013‘全国半导体器件技术、产业发展研讨会暨第六届中国微纳电子技术交流与学术研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:xiaoxz
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增强型技术是AlGaN/GaN HEMT功率器件领域的关键技术之一,本文提出一种新型场致隧穿增强型AlGaN/GaN HEMT器件,该结构通过采用刻槽以及垂直栅结构等技术,在栅极施加电压调节能带分布并控制隧穿进而控制器件开启与关断,从而实现增强型AlGaN/GaN HEMT器件。本文利用ISE仿真软件,分析了所提出的场致隧穿增强型AlGaN/GaN HEMT新结构工作机理,结果表明该器件具有优良的器件特性。
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