【摘 要】
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采用反应射频磁控溅射法，在氩-氧氛围制备Cu-O体系薄膜。在溅射功率、氩气流量一定的条件下，通过改变氧分压，得到不同戍份的Cu-O体系薄膜。在氧分压较小条件下，薄膜中主要以金属
【机 构】
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中国科学院广州能源研究所中国科学院可再生能源与天然气水合物重点实验室,中国科学院研究生院
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采用反应射频磁控溅射法，在氩-氧氛围制备Cu-O体系薄膜。在溅射功率、氩气流量一定的条件下，通过改变氧分压，得到不同戍份的Cu-O体系薄膜。在氧分压较小条件下，薄膜中主要以金属铜为主，存在少量的Cu2O，随着氧分压的增加，Cu2O成分增加，在氧分压1．42×10^-2pa时得到单相Cu2O薄膜。随着氧分压继续增加，Cu2O逐渐转变成CuO。薄膜成份通过X射线分析，薄膜电阻率采用四探针仪测量，薄膜光学特性采用紫外-可见光谱分析，并计算出本次实验所得单相Cu2O光学带隙为2．51eV。
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