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更低的导通损耗和开关损耗一直是功率VDMOS发展的方向.本文提出了一种适用于低压应用的具有体内RESURF结构的槽栅型VDMOS,并借助仿真软件进行了设计和优化,获得了耐压62V的器件,比传统槽栅型VDMOS的阻断电压提高21.6％,同时比导通电阻降低84.1％,且器件具有更高的可靠性。
一种具有体内RESURF结构的槽栅型VDMOS
【摘 要】
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更低的导通损耗和开关损耗一直是功率VDMOS发展的方向.本文提出了一种适用于低压应用的具有体内RESURF结构的槽栅型VDMOS,并借助仿真软件进行了设计和优化,获得了耐压62V的器
【机 构】
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中国电子科技集团公司第47研究所,辽宁 沈阳,110032
【出 处】
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2013‘全国半导体器件技术、产业发展研讨会暨第六届中国微纳电子技术交流与学术研讨会
【发表日期】
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2013年期
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