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【摘 要】
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作者首次在国内开展了13nm Mo/Si多层膜残余应力的研究工作.首先从材料在极紫外、软X射线波段的光学特性出发,讨论了极紫外、软X射线在理想和非理想多层膜系中的反射特性;研
【机 构】
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中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
【出 处】
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中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
【发表日期】
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2004年01期
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