该文系统分析HT-6M托卡马克粒了循环、粒子输运、边界主要原子、分子过程和碳氧杂质产生机制、循环途径、控制方法,以及几种实验条件下的输运行为.利用可见光学多道分析仪(OSMA)系统进行了高分辨率的H<,α>线型的测量,从H<,α>线型分布得出了再循环的氢原子能量分布函数,由氢原子的能量分布得出发生在边界的分子过程是氢分子的离解激发和电离离解.通过高斯拟合H<,α>线型分布, 得出由反射进和等离子体的氢原子、氢分子离解后产生的氢原子,以及发生交换后的氢原子辐射H<,α>谱线的份额, 由Doppler频移和展宽分别得出它们的入射速度和离子温度.在简化模型下讨论了氢原子的输运行为,得出了氢原子的密度和体发射系数的空间分布,分析了氢原子入射速度对粒子约束时间的影响.在简化模型下讨论了氢氘比与粒子再循环的关系.通过近紫外-可见全谱和对杂质谱线的时间行为的测量,系统分析HT-6M杂质种类和可能的来源,给出了几种常见杂质朝内通量,讨论杂质产生的机制和循环途径,分析了杂质控制实验(蒸钛和硼化)结果.建立了完备的杂质输运程序,通过多道可见光谱探测系统和单道近紫外系统进行了杂质时空分布的测量,数值模拟了碳氧杂质在欧姆放电时的输运行为,得出了杂质扩散和对流系数、杂质不同电离态的密度和体发射系数、损失功率密度和有效电荷数的空间分布.分析了背景等离子体不确定性对杂质输运参量选取的影响.分析了ICRF期间杂质行为,给出了杂质朝内通量和ICRF注入功率的关系,数值模拟了ICRF期间的杂质输运行为.