论文部分内容阅读
红外光学材料在光电子精密装备、红外相机、大型激光器窗口、半导体硅片等领域中都有非常广泛的应用，但是目前广泛使用的激光外差干涉仪光源大多数是可见光波段，且工作模式基本都是反射式的，因此无法对红外光学材料的内部微观结构，如光学厚度、内部应力变化等做精密测量。本文中所使用的1550nm波长MEMS扫描红外激光外差干涉仪由于其光源属于近红外波段，且工作模式属于透射式而能够对红外光学材料的内部微观结构进行精确测量。MEMS扫描红外激光外差干涉仪是微机电系统与传统激光外差干涉仪相结合的最新成果，它不仅具