BDD/Ti多孔复合膜制备关键技术研究

来源 :天津理工大学 | 被引量 : 3次 | 上传用户:KenBlove
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金刚石薄膜材料由于其优异的物理和化学特性而被社会广泛关注,特别是近些年,作为一种新型的电极材料,在有机废水处理方面显现出良好效果,有着其他工作电极无法比拟的优点,如宽电势窗口、高析氧电位、低背景电流等。金属钛板由于具有密度小、比强度高、工作温度范围宽、耐腐蚀性强等特性,做为基底来沉积掺硼金刚石薄膜成为一种新型电极越来越被人们所认可。本文在此基础上,以多孔钛作为基底,利用热丝化学气相沉积技术(HFCVD)制备掺硼金刚石薄膜,形成了一种新型复合膜。制备过程中发现,由于基底的多孔特性以及粉末冶金烧结技术的原因,多孔基底本身存在较大的残余张应力,再复合以HFCVD薄膜制备中引入的残余应力,对膜基附着特性将产生很多不利影响,使薄膜和基底出现翘曲,降低金刚石薄膜承受载荷的能力,容易出现几何尺寸的形变甚至碎裂;另一项显著影响金刚石膜与多孔钛附着特性的原因是疏松多孔结构的碳化钛过渡层的形成。本文针对基底残余应力和过渡层碳化钛这两项影响膜基附着特性的主要因素进行了分析,详细讨论了退火预处理和钝化预处理工艺对其的调整结果。实验表明,经过工艺调整,采用碳化处理的钽丝作为热丝,丙酮作为碳源,所制备的复合膜没有出现裂痕和碎裂现象。通过XRD和SEM检测,基底残余应力和碳化钛生成问题得到了有效解决,膜基附着特性明显提高。
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