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本试验以黄瓜（津优35号）为试材，用不同浓度的硅营养液液培，通过对植株生理指标和瓜条品质参数的测量、分析，研究了不同施硅水平对温室黄瓜植株生长发育、光合特性、叶绿素荧光特性以及对产量品质的影响。以期筛选出合理的施硅水平，为优质黄瓜生产和硅肥科学施用提供理论依据。试验主要结果如下：1.随着硅浓度的增加，施硅处理组植株的绝对株高较对照高出13-32cm，绝对茎粗高出0.05-0.12cm，生长速率依次升高，组间差异达显著水平。施硅处理组植株提前开花结果一周左右。苗期植株上述各指标变化均比结果盛期显著。2.随着硅浓度的增加，施硅处理组植株叶片的叶绿素含量比对照提高3.1-36.4%，净光合速率（Pn）、水分利用率（WUE）依次增大，组间差异达显著水平。蒸腾速率和气孔限制值与对照相比无显著变化。3.在0.5-1.5mmol/L浓度范围内随着硅浓度的增加，最大光化学效率（Fv/Fm）、光合电子传递速率（ETR）、光化学猝灭系数(qP)均呈上升趋势，与对照差异显著；当浓度大于1.5mmol/L时，Fv/Fm、ETR、qP开始降低，qN升高。4.施硅处理组单瓜重比对照组提高17.3%，单株产量提高11.8%。瓜条中游离氨基酸总量比对照增加14.3%，硝酸盐含量比对照降低23.1%，瓜条中可溶性糖、维生素C含量也有不同程度的提高。5.高浓度硅（2.0mmol/L）处理组植株生长势劣于对照组，甚至有些出现烂根和死亡，且瓜条多畸形。试验得出结论：适量施用硅肥能促进黄瓜植株生长发育，增强光合作用、提高产量、并有效改善瓜条品质；硅含量在0.5-1.0mmol/L浓度范围内的营养液对相关指标的影响最为显著，最有利于植株的生长发育，而且在黄瓜植株的不同生长时期，硅肥效应有差异。高浓度硅（2.0mmol/L）会抑制植株的生长发育。