SiC陶瓷与TiAl合金的扩散连接机理及反应层成长行为研究

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SiC陶瓷和TiAl合金都是很有发展前途的轻质高强材料,由二者组成的连接接头或复合材料将在未来军事和航天工业中有广阔的应用前景.研究SiC与TiAl合金的界面反应现象和规律,对于提高连接接头或复合材料的性能具有重要的指导作用,也可为研究化合物与化合物之间的界面反应提供一定的理论基础.基于此,该文以SiC与TiAl合金的扩散连接接头为研究对象,采用试验研究和理论分析相结合的方法,对SiC与TiAl合金的界面反应机理及反应层的成长行为进行深入研究.
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