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【摘 要】
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以Ga N、Si C为代表的第三代半导体材料具有宽禁带、高击穿电场、高热导率、高电子饱和速率等特点,但其服役环境较为复杂,这对器件的连接材料及连接可靠性提出了更高的要求。
【出 处】
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哈尔滨理工大学
【发表日期】
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2020年01期
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