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【摘 要】
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化学机械抛光是实现全局平坦化最关键的技术，是机械作用与化学作用平衡的作用的结果，抛光液中微观粒子的研磨作用以及抛光液的化学腐蚀作用在被研磨的介质表面上形成光洁平坦的
【机 构】
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中山大学
【出 处】
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中山大学
【发表日期】
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2007年期
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第一章：首先简述了核酸适配体的概念、适配体的筛选过程(SELEX技术)及适配体的特性,并着重介绍了近年来基于适配体传感体系的检测技术及研究进展,最后阐述了论文的立题背景和研究内容。第二章：利用小檗碱作为荧光探针,与K+离子具有特异性亲和作用且富含G序列的适配体序列作为识别元件,设计了一种简便、快速的免标记适配体传感体系。荧光染料小檗碱本身发射较弱的荧光信号,嵌入核酸适配体中形成小檗碱/核酸适配体复