目的:　　通过三维有限元分析，探讨上腭微种植体间接支抗对后牙在三维方向上的支抗控制作用及其连接的最佳牙位，为正畸临床提供参考。　　方法:　　通过CBCT扫描头部获得图像数据，结合Mimics、Geomagic和Solidworks软件，建立四组模拟减数第一前磨牙的上颌骨三维有限元模型，其中模型Ⅰ模拟加入托槽及0.019英寸×0.025英寸的弓丝且第二前磨牙和第一磨牙连续结扎;模型Ⅱ在模型Ⅰ的基础上设定腭部微种植体并用0.019英寸×0.025英寸的不锈钢丝将其约束于两侧上颌第二前磨牙上;模型Ⅲ用0.019英寸×0.025英寸的不锈钢丝将腭部微种植体约束于两侧上颌第一磨牙上;模型Ⅳ用0.047英寸×0.047英寸的不锈钢丝将腭部微种植体约束于两侧上颌第二前磨牙上。在对上颌第二前磨牙分别施加2N近中、(牙合)向、腭向作用力条件下，使用Anasys软件计算比较四组模型中上颌第二前磨牙及第一磨牙牙周膜应力和三维方向的位移。　　结果:　　1、当第二前磨牙受2N近中向作用力时，与模型Ⅰ相比，模型Ⅱ第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大应力分别减小了1.8％和0.3％，最大位移分别减小了0.7％和0.8％;模型Ⅲ第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大应力分别减小了1.8％和0.7％，最大位移分别减小了0.8％和1.2％;模型Ⅳ第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大应力分别减小了3.7％和1.7％，最大位移分别减小了3.4％和1.2％。　　2、当第二前磨牙受2N(牙合)向作用力时，与模型Ⅰ相比，模型Ⅱ第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大应力分别减小了3.7％和2.4％，最大位移分别减小了3.4％和3.0％;模型Ⅲ第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大应力分别减小了2.0％和1.6％，最大位移分别减小了2.1％和2.5％;模型Ⅳ第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大应力明显减小，分别为31.9％和26.2％，最大位移也明显减小，分别为34.2％和22.0％。　　3、当第二前磨牙受2N腭向作用力时，与模型Ⅰ相比，模型Ⅱ第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大应力分别减小了7.1％和2.1％，最大位移分别减小了4.6％和4.7％;模型Ⅲ第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大应力分别减小了3.2％和1.6％，最大位移分别减小了2.1％和2.7％;模型Ⅳ第二前磨牙、第一磨牙的牙周膜最大应力明显减小，分别为36.8％和31.0％，最大位移也明显减小，分别为46.6％和30.1％。　　结论:　　1、腭部微种植体支抗无论连接在上颌第二前磨牙上还是连接在第一磨牙上都能增强对后牙(牙合)向、腭向移动的支抗控制，起到间接支抗的作用，但前者较后者作用大。　　2、腭部微种植体支抗连接在上颌第一磨牙上对后牙矢状向移动的支抗控制较连接在上颌第二前磨牙上强，但两者支抗控制作用都相对较小。　　3、增强连接弓丝的刚性，更能增强后牙的支抗，即增强了间接支抗的效果。