多光谱成像技术是目标探测领域的先进技术,目前正向着光谱通道更多、集成度更高、体积更小和质量更轻的方向发展,所以多通道微结构窄带滤光片已成为研究的热点。然而,微结构滤光片的研制目前还受到通道光谱透射率较低以及微结构单元的微型化程度和制备精度也不高的局限。因此,必须进一步展开对微结构滤光片的制备方法和制备工艺的探究。本文主要是对微结构滤光片的设计以及基本工艺的研究,基于F-P滤光膜原理设计了可见光波段的3个不同中心波长的窄带滤光片;采用光化学掩模分离法制备了微结构单元;利用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术沉积得到了微结构滤光片,同时研究了 PECVD制备的薄膜复形性问题。主要研究结论如下:(1)传统的全介质单半波型的F-P滤光膜中,间隔层为高折射率材料的膜系G/(HL)22mH(LH)2/A具有良好的峰值透过率和通带半宽度,有最佳的设计结果。膜系层数少和膜层总厚度较薄,实际制备时较为容易;(2)利用PECVD技术制备得到了中心波长分别为480nm、520nm和590nm的窄带滤光膜,峰值透过率对应分别为83.85%、83.49%和90.38%,通带半宽度分别是33nm、50nm 和 49nm;(3)通过对线阵微结构复形性的研究表明,薄膜的沉积速率和厚度以及微结构的深度对微结构薄膜的复形性影响较大。在此基础上对复形性工艺进行了优化,结合膜系设计结果,在约为1μμm厚掩模的表面,采用最佳工艺条件沉积的单层SiOx和SiNx薄膜具有良好的复形性,掩模横截面的坡度分别达到1.4和1.2;(4)采用PECVD技术和光化学掩模分离技术相结合制备得到的微结构滤光片,微结构单元的通道面积为500μm×50μm,边缘整齐、分界线清晰,光谱特性良好,峰值透射率保持在80%-90%,各通道的通带半宽度在30-50nm之间,中心波长的偏移量保持在4nm以内。