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【摘 要】
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在现代半导体工业中，由于光波长的限制，传统的光刻蚀技术在器件设计上逐渐达到了其尺寸极限。进一步减小特征尺寸以获得更高的分辨率变得非常困难而且成本高昂。嵌段共聚物刻蚀
【机 构】
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南京大学
【出 处】
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南京大学
【发表日期】
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2011年期
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