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对于薄膜太阳能电池而言,在玻璃基底上廉价高效地制备陷光结构是光伏行业研究的热点。传统的光刻、激光直写及反应离子刻蚀等加工工艺虽能精确制备陷光结构,但其需要昂贵的设备投入,复杂的工艺过程也增加了加工成本和生产周期。微接触印刷虽能在金属表面通过硅氧化学键合形成自组装单分子层,但是这种自组装大部分也仅限于硫醇与金之间的化学反应,更为重要的是该弹性印章在结构面处提供的化学试剂很少,而且在反应过程中得不到有效补充,这一局限导致微接触印刷方法对基底难以进行相对较深的刻蚀,目前主要用于微纳结构的图形化。本论文提出了一种利用反应扩散刻蚀将石英玻璃表面的Cr/Cu种子层图形化,然后通过湿法刻蚀制备陷光阵列结构的加工工艺。首先,研究配制一种硝酸铈铵乙醇混合溶液;接着研究使用图形化的弹性印章PDMS吸附足够量的硝酸铈铵乙醇混合溶液,并将此PDMS作为反应扩散刻蚀的模板;然后在基底接触面处使弹性印章内部扩散出来的反应刻蚀剂与Cr/Cu种子层发生化学反应进行刻蚀图形化;最后将石英玻璃基底上的Cr/Cu种子层作为湿法刻蚀的掩模板,利用氢氟酸溶液刻蚀石英玻璃基底,在该基底表面获得了二维周期性的浴盆形状微凹坑阵列结构。把经过上述工艺制备的陷光结构应用到硅叠层薄膜太阳能电池上能够减少反射,提高电池光电转换效率。实验结果表明:在300~1100 nm的波长范围内,与表面光滑玻璃结构硅叠层薄膜太阳能电池相比,太阳能电池光电转换效率达到10.08%,相对提高了3.07%;玻璃表面的平均反射率由9.13%下降到8.87%,制备获得的表面具有浴盆形状微凹坑阵列结构的玻璃片平均透射雾度达到了49.45%,将该浴盆形状微凹坑阵列结构覆盖到单晶硅片上测试,电池表面平均反射率由27.15%下降到22.28%。论文提出的利用反应扩散刻蚀工艺在玻璃表面制备陷光阵列结构的方法,将有望应用于硅叠层薄膜太阳能电池表面实现减反,提高太阳能电池效率。