论文部分内容阅读
在一定气体氛围内用超短激光脉冲照射硅表面,可在硅表面产生准规则排列的微米量级尖峰结构,形成具有强吸收的表面微构造硅。研究表明用飞秒激光脉冲刻蚀硅表面所形成的微结构与激光脉冲数、通量、偏振特性,背景气体种类、气压等有关,从而获得了控制表面形态的基本实验参数和规律。观察了不同背景气体环境下刻蚀过程中产生的等离子图谱,发现等离子光谱依赖于刻蚀过程中的背景气体种类和气压,在SF_6背景气体中得到的等离子谱最强,并且开始时其强度随着气压的增加而增加,直到70 kPa时达到最强,然后随压强的增加而减弱。同时,等