光栅作为一种非常重要的光学元件，被广泛应用于集成光路、光通信、光学互连、光信息处理、光学测量等领域中。目前，光栅的应用多集中在纳米尺度，所以纳米光栅制备工艺的研究有着十分重要的意义。　　目前，制作纳米光栅的方法多种多样。但是，已有的纳米光栅加工工艺，如全息光刻、电子束光刻、离子束光刻、X射线光刻等，所使用的设备往往比较昂贵、复杂、难以控制，而且工艺条件苛刻，制作成本高、周期长，而飞秒激光直写法、双光束干涉法可用来制作周期为几百纳米的光栅，但是制作出来的纳米光栅平直性不好，光路复杂，工艺过程不好控制。　　针对这些问题，本文提出了一种全新的纳米量级光栅的制作工艺。首先，利用传统光刻方法，制作出周期在微米级别的光栅母模，然后利用弹性材料PDMS进行翻模复制，并对PDMS薄膜进行拉伸，使得其表面的内嵌式光栅结构周期变小，之后利用PMMA对其进行复制。反复多次，即可得到纳米光栅。利用该方法，我们得到了线宽在纳米级别的光栅结构，并进行了相关测试，效果良好。　　该工艺具有成本低、周期短、工序简单且易于控制等优点。尤其适用于大面积光栅结构的制作。