激光干涉光刻技术是一种无掩模光刻技术,此技术补充了传统光刻技术的不足,且其具有很多优势如:高分辨率、长焦深、大批量生产等。本论文对激光干涉光刻技术进行了系统的研究,评述了激光干涉光刻技术的研究目的意义,以及目前在太阳能电池、生物传感器、掩模版等诸多应用。论文进一步从理论基础研究到实验分析,首先介绍了无掩模激光干涉光刻基本理论,在理论的基础上进行实验。由于光刻技术根据光束的多少被划分为双光束干涉光刻、三光束干涉光刻等。本文通过所需实验搭建光路,实现双光束干涉、三光束干涉实验,用光传感器探测透射信号,得到动力学特性曲线进而从中分析其衍射效率及内部机理。由于本论文实验中采用的薄膜材料是螺噁嗪/PMMA聚合物,它是一种光致变色材料并且具有荧光特性,利用此特性可以在共聚焦显微镜下方便清晰的看到微观结构图案。光刻按照曝光次数来分可以分单次曝光,双次曝光及多次曝光,本论文实现了双光束双曝光、双光束多次曝光以及三光束单曝光,分别得到了其微观图形。目前,光刻技术得到进一步提升,可以刻蚀出精细的微观图像,利用激光干涉光刻的优势,刻蚀产生所需图形,激光干涉光刻具有很好的应用前景,是一个主流的光刻技术。