电子束曝光技术是微纳加工技术研究与开发应用的关键技术，在微电子、微光学、微机械等微纳米加工领域有着广泛的应用前景。实现该技术的电子束曝光系统是一套复杂的半导体加工设备，为保障其正常协调工作，必须有一套功能完备、操作便捷的软件系统。因此，本文开展了电子束曝光软件系统的研究，对其涉及到的关键性技术进行了详细阐述和深入分析，进而提出了合理的算法设计，自主研制开发了一套实用化的软件系统，最后利用该系统在基于SEM的电子束曝光系统平台上进行了曝光实验。　　 本文首先分析了基于SEM的电子束曝光系统特点，从实用化的角度出发，提出了软件系统的功能需求。对软件系统的必要功能——数据格式转换技术进行了研究，提出了一种适用于本电子束曝光系统的数据格式，设计了集成电路版图源文件的解析方式，针对曝光版图特点和计算效率要求，提出了完备高效的图形分割和处理算法。对邻近效应产生机制和校正技术进行了研究，提出了一种利用矩阵寻址方式求解曝光版图能量分布，进而调整各区域曝光剂量的校正方法。对电子束曝光中的对准校正技术进行了研究，设计了对扫描场畸变和坐标系进行校正的软件实现方法。以提出的算法设计为依据，在VisualC++6.0开发环境下完成了软件系统的开发。最后利用该软件系统进行了曝光实验，验证了软件系统的可靠性与易操作性。　　 本课题为实用化研究课题，该课题的完成对填补国内此领域技术空白有重要意义。所实现的软件系统功能完备，界面友好，可完成实验曝光版图设计、曝光数据文件生成，对硬件设备进行检测校正，控制曝光的整个过程，在基于SEM的电子束曝光系统中发挥了重要作用。该软件系统已获得国家版权局的计算机软件著作权保护。