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近年来随着半导体工业的不断发展,集成电路的关键尺寸正向着22nm以下的技术节点迈进。器件尺寸的不断减小,导致关键尺寸成为影响器件电气性能的重要因素。如何有效测量和控制关键尺寸成为纳米计量领域的一大难题。传统的测量工具如光学显微镜(OM)、扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)都不能对关键尺寸进行有效的真三维测量。为此本文提出构建双探针原子力显微镜测量系统,利用双探针针尖对顶测量,有效消除探针尺寸对测量结果的影响。为验证双探针测量的可行性,基于石英音叉探针(A-Probe)开发了原子力显微镜