【摘 要】
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平面磁控溅射靶面水平磁感应强度对靶材刻蚀均匀性及其利用率等有着重要作用。为了提高靶面水平磁感应强度均匀性,在传统磁控溅射平面靶结构基础上,提出了一种采用加装两导磁
【机 构】
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北京航空航天大学物理科学与核能工程学院,太阳能薄膜实验室,
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平面磁控溅射靶面水平磁感应强度对靶材刻蚀均匀性及其利用率等有着重要作用。为了提高靶面水平磁感应强度均匀性,在传统磁控溅射平面靶结构基础上,提出了一种采用加装两导磁片的结构,通过ANSYS软件模拟,得出采用不同尺寸及位置的导磁片时的靶面水平磁感应强度分布规律。结果表明,当采用适当的导磁片厚度、导磁片间距及导磁片与内外磁钢距离时,能有效改善靶面的水平磁感应强度均匀性,提高靶材的利用率。同时,通过模拟分析了距靶面不同距离的截面磁场强度分布对靶材刻蚀轮廓的影响。
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