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砷化镓晶体线切割工艺与晶片质量关系研究
砷化镓晶体线切割工艺与晶片质量关系研究
来源 :天津科技 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wzgncsyj1
【摘 要】
:
损伤层深度和翘曲度是鉴别晶片加工质量好坏的2个重要指标。用x射线回摆曲线法和非接触式电容法分别测量了砷化镓(GaAs)材料在线切割中的损伤层深度和翘曲度,分析了引入损伤和翘
【作 者】
:
孙强
纪秀峰
【机 构】
:
中国电子科技集团公司第46研究所
【出 处】
:
天津科技
【发表日期】
:
2010年2期
【关键词】
:
砷化镓
线切割
损伤层深度
翘曲度
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损伤层深度和翘曲度是鉴别晶片加工质量好坏的2个重要指标。用x射线回摆曲线法和非接触式电容法分别测量了砷化镓(GaAs)材料在线切割中的损伤层深度和翘曲度,分析了引入损伤和翘曲的主要因素。随着切割速度的降低,损伤层厚度略有减小。随着钢丝张力的增加和切割速度的降低,翘曲度明显改善。
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