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研究了TiAl基合金的辉光离子渗氮.渗氮气氛为NH 3,渗氮温度分别为850℃、900℃、950℃,渗氮时间分别采用2 h到12 h不等.结果表明:TiAl基合金经辉光离子渗氮后,在表面形成由氮化物层和过渡层组成的氮化层,氮化层形成速度明显快于高温气体渗氮.采用NH 3气氛、900℃×9 h工艺参数时,渗层厚度可达12 μm,渗层的显微硬度值可达1 097HV0.1.