【摘 要】
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首先对硅酸盐体系中的AZ91D镁合金进行微弧氧化处理,然后通过调节电压制备厚度均为25μm和厚度均为40μm的两组微弧氧化膜层,并针对这两组等厚度膜层的制备时间、能耗、质量
【机 构】
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兰州理工大学省部共建有色金属先进加工与再利用国家重点实验室
【基金项目】
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甘肃省创新研究群体计划项目(1111RJDA011)
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首先对硅酸盐体系中的AZ91D镁合金进行微弧氧化处理,然后通过调节电压制备厚度均为25μm和厚度均为40μm的两组微弧氧化膜层,并针对这两组等厚度膜层的制备时间、能耗、质量厚度比及耐蚀性随电压的变化规律等进行对比研究.结果表明:随着电压的增大,两组等厚度膜层的制备时间均缩短,能耗均降低.相对于厚度均为25μm的膜层,厚度均为40μm的膜层的制备时间更长、能耗更大,同时因40μm膜层较低的致密性,其在氯化钠介质中的耐蚀性较差,但其较厚的厚度使得膜层在硝酸介质中显现出更为优异的耐蚀性能.
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