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针对X射线自支撑透射光栅在多能点单色成像光栅谱仪中的应用，采用电子束和光学匹配曝光、微电镀和高密度等离子体刻蚀技术，成功制备了周期为500nm、金吸收体厚度为350nm、占空比接近1：1，满足三个能点成像需求的2000 lp／mmX射线自支撑透射光栅。首先利用电子束光刻和微电镀技术制备金光栅图形，然后采用紫外光刻和微电镀技术制作自支撑结构，最后通过腐蚀体硅和感应耦合等离子体刻蚀聚酰亚胺完成X射线自支撑透射光栅的制作。在电子束光刻中，采用几何校正和高反差电子束抗蚀剂实现了对纳米尺度光栅图形的精确控制。实验结