光刻技术新进展

来源 :半导体技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户：kick_78

【摘要】

：

[编者按]半导体技术经过半个多世纪的发展,现在仍继续遵循Moore定律保持着强劲的发展态势,片径已达300mm,并不断在向450mm迈进,据预测,在新技术推动下到2010年后直径将达到45

【作者】

：

Suki

【机构】

：

《半导体技术》通讯员

【出处】

：

半导体技术

【发表日期】

：

2005年6期

【关键词】

：

光刻技术新进展浸入式光刻纳米光刻

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[编者按]半导体技术经过半个多世纪的发展,现在仍继续遵循Moore定律保持着强劲的发展态势,片径已达300mm,并不断在向450mm迈进,据预测,在新技术推动下到2010年后直径将达到450mm.大尺寸、细线宽、高精度、高效率、低成本成为IC产品发展的趋势,随着集成度的提高,芯片制造中最关键的制造工艺--光刻技术也面临着愈来愈多的难题.

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