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采用射频磁控溅射技术制备MoS2-Sb2O3复合薄膜，研究靶功率对薄膜性能和结构的影响。利用XRD、XRF分析薄膜的成分和结构，用CSM薄膜综合性能仪测试薄膜的硬度及附着力，通过承载力试验测试薄膜的承载性能，使用真空球一盘摩擦试验机测试真空和大气下薄膜的摩擦因数及耐磨寿命。结果表明：使用射频磁控溅射制备的MoS2-Sb2O3复合薄膜具有准非晶结构，其薄膜结构和成分受沉积时的靶功率影响；MoS2-Sb2O3复合薄膜在真空下具有比大气下更稳定的摩擦学性能，更长的耐磨寿命；提高溅射原子能量能有效地提高MoS2-