人工晶体学报第34卷第1～6期总目次

来源 :人工晶体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：aidam

【摘要】

：

题目作者期页底部籽晶法:一种高温溶液晶体生长新方法…………………………………………………………徐家跃〔1〕(1)钨酸铋钠晶体电子结构的理论模拟……………………………

【出处】

：

人工晶体学报

【发表日期】

：

2005年6期

下载到本地 , 更方便阅读

下载此文赞助VIP

声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架

论文部分内容阅读

题目作者期页底部籽晶法:一种高温溶液晶体生长新方法…………………………………………………………徐家跃〔1〕(1)钨酸铋钠晶体电子结构的理论模拟………………………………………………刘峰松顾牡张睿〔1〕(7)PbWO4:(Sb,Y)晶体的发光和闪烁性能研究………………………………………………谢建军杨培志袁晖廖晶莹殷之文曹顿华顾牡〔1〕(12)Nd:LuVO4晶体光谱参数的计算及其分析…………………冉栋刚夏海瑞吕英波赵守仁张怀金〔1〕(17)DC Plasma Jet CVD金刚石自支撑膜体结构的控制生长及其表

其他文献

陕北林业产业发展现状及对策研究

陕北地处我国的黄土高原地区，地表千沟万壑、黄土疏松、地质敏感。陕北多煤矿，经济发展迅速，但林业遭破坏的情况非常严重。由于自然环境和人为因素的双重影响，陕北地区自然环境恶

期刊

陕北林业发展现状对策研究

浅议如何加强初中学生对英语学习的兴趣

兴趣是最好的老师。一个成功的英语教师要在教学中有意识地培养学生对英语的持久兴趣，激励学生不断处于较佳的学习状态之中，使他们对英语乐学、善学、会学，学而忘我，乐此不疲。因

期刊

初中英语兴趣课堂效率

红外光谱法研究硅氢化反应

<正> 硅氢化反应是合成有机硅化合物和聚合物最重要的反应之一。硅氢化反应条件对反应影响很大,因而较多的文献采用色谱跟踪反应来探索反应进程。我们也曾进行过这样的工作。

期刊

硅氢化反应红外光谱法

热灯丝射频等离子体CVD法立方氮化硼薄膜某些性质的研究

本文研究了热灯丝射频等离子体ＣＶＤ法合成的立方氮化硼薄膜，反应气体是Ｂ２Ｈ６和ＮＨ３，衬底材料为Ｓｉ单晶。通过扫描电镜、红外吸收谱和Ｘ射线衍射分析指出，生长出的ｃ－ＢＮ薄膜的质量很好。

期刊

立方氮化硼薄膜汽相沉积薄膜c-BN filmsCVD spectragrowth mechanismsuperhard materials

快速费休氏试剂及电子终点测定青霉素类水分

费休氏(Karl Fischer)测定水分的重要进展之一是用某些胺类代替有强烈毒臭的吡啶。新试剂据称具有较高反应速率,终点稳定,且可贮藏较长时间。作者使用两种商品快速费休氏试剂

期刊

对羟基苯甲酸甲酯单晶生长和光学性能

本文报道一种有机非线性光学晶体——对羟基苯甲酸甲酯(p-MHB)的晶体结构、单晶生长、光学性能和晶体的倍频性能测试。采用水溶液降温法生长出体积为65cm~3的透明单晶。晶体

期刊

有机晶体P-MHB单晶水溶液降温法methyl p-hydroxybenzoate(p-MHB)crystalorganic crystalnon

《西南夷风土记》读书札记

在《西南夷风土记》中，这时的“西南夷”特指车里、缅甸、孟养、木邦、麓川、南甸、干崖、陇川、孟密等地，也就是今天的云南地区，尤其是云南的西部和南部与缅甸接壤的地区。“风

期刊

西南夷风土记西南夷

静态温梯法中纵向温度分布对固液界面形状的影响

本文证明了静态温梯法中坩埚侧壁处的纵向温度分布 T_(?)(z)的函数形式,对坩埚中固液等温面的凸度有着重要影响作用。指出通过温度场“调零”过程后,利用(?)~2T_(?)(z)/(?)z~

期刊

温梯法等温线固液界面凸度Vertical gradient freeze growthisothermalsolid-liquid surfac

光激电流法测量掺锗CZSi中的深能级

用光激电流法研究了Ｇｅ作为杂质掺入到Ｓｉ中可能引入的深能级，发现掺锗量小于或等于１．０ｗｔ％（重量比）时，不会在ＣＺＳｉ中引入与锗有关的深能级；锗的引入硅中点缺陷的深度。

期刊

等电子掺杂深能级光激电流法掺锗硅晶体isoelectronic dopingCZSideep levellight excited curren

热丝辅助射频CVD C3N4薄膜

采用热丝辅助射频等离子体增强化学气相沉积（ＣＶＤ）方法直接在Ｓｉ（１００）衬底上制备了多晶Ｃ３Ｎ４薄膜。Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）测试表明薄膜同时含有α－Ｃ３Ｎ４和β－Ｃ３Ｎ４晶相以未知结构。傅立叶变换红外吸收谱（ＦＴＩＲ）表明薄膜内的Ｃ－Ｎ，Ｃ＝Ｎ和Ｃ≡Ｎ键

期刊

X射线衍射硬度CVD氮化碳薄膜热丝辅助射频CVD C3N4 films Xray diffraction scanning electron m

人工晶体学报第34卷第1～6期总目次

其他学术论文