射频磁控溅射法制备SnS2薄膜结构和光学特性的研究

来源 :发光学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：dawnsun

【摘要】

：

采用射频磁控溅射法溅射SnS_2靶,在玻璃基片上以不同射频功率和氩气压强制备一系列薄膜样品,研究了不同工艺条件对薄膜特性的影响。利用X射线衍射(XRD)和拉曼光谱(Raman)对薄膜样品的晶体结构和物相进行表征分析。利用X射线能量色散谱(EDS)、紫外-可见-近红外分光光度计(UV-Vis-NIR)对SnS_2薄膜的化学组分、光学特性等进行测试,计算或分析了SnS_2薄膜样品的组分原子比、光学常数

【作者】

：

李学留刘丹丹梁齐史成武于永强

【机构】

：

合肥工业大学电子科学与应用物理学院,合肥工业大学化学与化工学院

【出处】

：

发光学报

【发表日期】

：

2016年03期

【关键词】

：

SnS2薄膜射频磁控溅射光学特性异质结器件 SnS2 thin films RF magnetron sputtering optical prope

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