制备工艺对WO3／TiO2薄膜可见光催化活性的影响

来源 :中国有色金属学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：colinzeng76

【摘要】

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采用磁控溅射技术在浸渍提拉法制得的TiO2薄膜上溅射WO3层, 通过不同制备工艺控制W在TiO2晶体中的分布. UV-VIS透射光谱表明, 在可见光范围内溅射有WO3层的薄膜有不同程度的

【作者】

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张琦李新军李芳柏王良焱梁园园

【机构】

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中国科学院,广东省生态环境与土壤研究所

【出处】

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中国有色金属学报

【发表日期】

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2002年6期

【关键词】

：

制备工艺 WO3/TiO2薄膜可见光催化活性二氧化钛磁控溅射氧化钨半导体 film photocatalytic activity under vi

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采用磁控溅射技术在浸渍提拉法制得的TiO2薄膜上溅射WO3层, 通过不同制备工艺控制W在TiO2晶体中的分布. UV-VIS透射光谱表明, 在可见光范围内溅射有WO3层的薄膜有不同程度的吸收光谱红移现象. 并理论计算出带隙能, 溅射WO3层使薄膜的带隙能变小. 甲基橙光催化降解实验表明, 以焙烧-溅射-热处理5h工艺制备的WO3/TiO2薄膜可见光活性最佳, W从薄膜表面到内层的浓度递减分布. 讨论了不同制备工艺引起的W在薄膜内部的不同分布对光催化活性的影响.

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